China Maju dengan Purwarupa Mesin Litografi EUV di Industri Semikonduktor

Terobosan Besar dalam Teknologi Semikonduktor

China telah mencapai tonggak penting dalam upayanya menuju kemandirian semikonduktor dengan berhasil mengembangkan purwarupa mesin litografi Extreme Ultraviolet (EUV). Teknologi ini sangat krusial untuk memproduksi chip paling canggih dan selama ini didominasi oleh perusahaan Belanda ASML. Purwarupa buatan China ini, yang diselesaikan pada awal 2025, saat ini sedang menjalani pengujian intensif di laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen.

Prestasi Penting dan Status Saat Ini

Meskipun mesin ini belum mampu memproduksi chip yang berfungsi penuh, purwarupa ini telah mencapai terobosan penting dengan berhasil menghasilkan cahaya EUV. Pencapaian ini menunjukkan kemajuan teknologi yang signifikan karena cahaya EUV merupakan komponen fundamental dalam fabrikasi semikonduktor canggih. Pengembangan ini merupakan hasil kerja tim ilmuwan China, termasuk mantan insinyur ASML, yang menggunakan teknik rekayasa balik dengan memanfaatkan suku cadang dari pasar sekunder.

Implikasi bagi Ambisi Semikonduktor China

Perkembangan ini menandai langkah maju substansial dalam ambisi industri semikonduktor China. Kemampuan memproduksi mesin litografi EUV dipandang sebagai elemen krusial dalam mencapai kemandirian dari penyedia teknologi asing. Meskipun masih ada tantangan teknis signifikan yang harus diatasi sebelum mesin ini dapat digunakan dalam produksi chip komersial, kemajuan yang dicapai sejauh ini menunjukkan tekad China untuk menutup kesenjangan teknologi dengan pemimpin industri.