Key insights and market outlook
Ilmuwan China telah berhasil membangun prototipe mesin litografi ultraviolet ekstrem (EUV), yang mampu memproduksi semikonduktor canggih yang krusial untuk kecerdasan buatan, ponsel pintar, dan persenjataan militer. Dikembangkan di laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen, mesin ini saat ini sedang menjalani pengujian setelah selesai pada awal 2025. Proyek ini melibatkan rekayasa balik teknologi EUV ASML oleh tim yang mencakup mantan insinyur perusahaan semikonduktor Belanda tersebut.
Para peneliti China telah membuat terobosan signifikan dalam teknologi semikonduktor dengan mengembangkan prototipe mesin litografi ultraviolet ekstrem (EUV). Peralatan canggih ini sangat penting untuk memproduksi semikonduktor mutakhir yang mendukung sistem kecerdasan buatan, ponsel pintar modern, dan perangkat keras militer canggih. Pengembangan ini dilakukan di laboratorium berkeamanan tinggi di Shenzhen dan selesai pada awal 2025.
Mesin EUV yang ukurannya hampir memenuhi satu lantai pabrik ini merupakan pencapaian teknologi besar. Dikembangkan oleh tim yang mencakup mantan insinyur ASML, produsen peralatan semikonduktor Belanda yang saat ini mendominasi pasar EUV. Tim China diyakini telah menggunakan teknik rekayasa balik untuk mengembangkan versi teknologi mereka. Pengembangan ini memiliki implikasi signifikan bagi industri semikonduktor global, berpotensi menantang dominasi Barat saat ini dalam teknologi manufaktur chip.
Pengembangan mesin EUV oleh China bukan hanya prestasi teknologi, tapi juga memiliki implikasi geopolitik dan ekonomi yang mendalam. Ini mewakili langkah maju signifikan dalam industri semikonduktor China, berpotensi mengurangi ketergantungannya pada teknologi asing dan meningkatkan kapabilitasnya di bidang kritis seperti kecerdasan buatan dan teknologi militer. Langkah ini kemungkinan akan memiliki konsekuensi jangka panjang bagi perdagangan teknologi global dan dinamika keamanan.
Development of Advanced EUV Machine
Breakthrough in Semiconductor Manufacturing Technology